資料簡介：
技術:由科研單位生產企業(yè)提供 技術簡介:詳細講解了{zx1}93項,多晶硅生產技術及工藝光盤(上)1.電熱致動多晶硅柔性鉸支承杠桿式微夾鉗： 2.低溫多晶硅薄膜晶體管全集成有源選址基板及制備方法： 3.具有多晶硅插頭的半導體器件的制造方法： 4.多晶硅薄膜殘余應變的在線檢測結構及檢測方法： 5.形成多晶硅的方法和在硅基材料中的MOSFET器件： 6.具有多晶硅層的薄膜晶體管、制造方法及平板顯示器： 7.多晶硅薄膜晶體管的形成方法： 8.一種制備多晶硅的方法： 9.用于制造垂直DRAM中的鎢/多晶硅字線結構的方法及由此制造的器件： 10.在半導體裝置中形成多晶硅層的方法： 11.制造多晶硅薄膜的方法和使用該多晶硅的薄膜晶體管： 12.光罩與應用其形成多晶硅層的方法： 13.無粉塵且無微孔的高純度粒狀多晶硅： 14.制造內層多晶硅介電層的方法： 15.制造多晶硅薄膜的方法及用其制造晶體管的方法： 16.制造多晶硅層的方法及其光罩： 17.包括多晶硅薄膜晶體管的液晶顯示器件及其制造方法： 18.減小微溝道效應的多晶硅刻蝕工藝： 19.避免溝槽底部毛邊生成的多晶硅刻蝕工藝： 20.多晶硅薄膜晶體管的多晶硅膜的形成方法： 21.多晶硅膜的形成方法： 22.多晶硅膜的形成方法： 23.多晶硅薄膜制造方法以及使用該多晶硅薄膜的設備： 24.多晶硅薄膜的制造方法和用多晶硅薄膜制造的顯示器件： 25.制作低溫多晶硅薄膜的方法： 26.具有多晶硅熔絲的半導體器件及其微調方法： 27.一種制備多晶硅絨面的方法： 28.閃存儲器用的多層疊層多晶硅柵的平整方法： 29.彩色多晶硅微粒及其制備方法： 30.半導體器件及制作一低溫多晶硅層的方法： 31.改善柵極多晶硅層電阻值的方法： 32.形成具有粗糙表面的多晶硅的方法： 33.多晶硅薄膜晶體管制造方法： 34.多晶硅液晶顯示器件的制造方法： 35.低溫多晶硅薄膜晶體管基板： 36.低溫多晶硅顯示裝置： 37.低溫多晶硅薄膜晶體管及其制造方法： 38.低溫多晶硅薄膜晶體管： 39.制造多晶硅層的方法： 40.多晶硅層結構與其形成方法以及平面顯示器： 41.低溫多晶硅薄膜晶體管及其通道層的制造方法： 42.包括多晶硅薄膜晶體管的平板顯示裝置及其制造方法： 43.半導體元件與其中的多晶硅薄膜晶體管及其制造方法： 44.提高深亞微米多晶硅柵刻蝕均勻性的方法： 45.制造雙層多晶硅可改寫非揮發(fā)性存儲器的方法： 46.多晶硅氫還原爐： 47.制造雙層多晶硅存儲器元件的方法： 48.具有多晶硅薄膜晶體管的液晶顯示器及其制造方法： 49.15-50納米線寬多晶硅柵的刻蝕方法： 50.一種納米線寬多晶硅柵刻蝕掩膜圖形的形成方法： 51.底柵控制型多晶硅薄膜晶體管的制造方法： 52.利用雙鑲嵌工藝來形成T型多晶硅柵極的方法： 53.形成T型多晶硅柵極的方法： 54.形成具高電阻值的多晶硅薄膜的方法： 55.利用雙鑲嵌工藝來制造T型多晶硅柵極的方法： 56.應用于高效能薄膜晶體管的多晶硅退火結構及其方法： 57.低溫多晶硅顯示裝置及其制作方法： 58.一種抑制多晶硅針孔的多晶硅層緩沖局部場氧化硅結構工藝方法： 59.低溫多晶硅薄膜電晶體基板及其制作方法： 60.多晶硅化金屬柵極結構及其制造方法： 61.多晶硅氫還原爐： 62.多晶硅氫還原爐： 63.形成多晶硅鍺層的方法： 64.具有多晶硅薄膜晶體管的平板顯示裝置： 65.多晶硅薄膜晶體管陣列板及其制造方法： 66.低溫多晶硅薄膜的制造方法： 67.集成電路多晶硅高阻電阻的制作方法： 68.半導體元件和在其中形成多晶硅層的制造方法： 69.三維多晶硅只讀存儲器及其制造方法： 70.陶瓷襯底多晶硅薄膜太陽能電池： 71.多晶硅薄膜晶體管離子注入機： 72.多晶硅的定向生長方法： 73.制備多晶硅的方法： 74.多晶化方法、制造多晶硅薄膜晶體管的方法及用于該方法的激光輻照裝置： 75.利用自行對準金屬硅化物制程形成多晶硅電容器的方法： 76.基于電感耦合等離子體刻蝕多晶硅及制備超細線條的方法： 77.多晶硅的蝕刻方法： 78.形成多晶硅結構： 79.形成多晶硅層及多晶硅薄膜晶體管的方法： 80.多晶硅層的處理方法： 81.形成多晶硅層的方法： 82.多晶硅薄膜的制造方法： 83.低溫多晶硅薄膜晶體管的制造方法： 84.多晶硅薄膜的制造方法： 85.多晶硅層的結晶方法： 86.于基板上形成多晶硅層的方法： 87.形成低溫多晶硅薄膜晶體管的方法： 88.多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器的電路布局方法： 89.低溫多晶硅薄膜晶體管的制作方法： 90.薄膜晶體管的多晶硅制造方法： 91.多晶硅薄膜的制造方法： 92.低溫多晶硅薄膜晶體管的制造方法： 93.利用準分子激光再結晶工藝來制作多晶硅薄膜的方法：
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