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 高猛鋼表面拋光用P-1拋光機(jī),小巧玲瓏搬運(yùn)方便
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高猛鋼表面拋光用P-1拋光機(jī),小巧玲瓏搬運(yùn)方便

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濟(jì)南方圓試驗(yàn)儀器有限公司

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P-1金相試樣拋光機(jī)是專業(yè)針對(duì)金屬材料來(lái)進(jìn)行拋光的設(shè)備,進(jìn)而得到光亮如鏡面的試樣,一般拋光是金相試樣{zh1}一樣制作程序,試樣拋光后可進(jìn)行進(jìn)行分析。

一般拋光機(jī)可選則兩款機(jī)型,一款是單盤的一款是雙盤的,本章介紹的是單盤的金相拋光設(shè)備。

概述
適用于對(duì)經(jīng)磨光后的金屬材料進(jìn)行拋光,可獲得光亮如鏡的金屬表面,供在顯微鏡下觀察與測(cè)定金相組織。

金相試樣拋光的技術(shù)要求
拋光操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到{zd0}的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織,即不會(huì)zcj組織。這兩個(gè)要求是矛盾的。前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用最細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。解決這個(gè)矛盾的{zh0}的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。首先是粗拋,目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有{zd0}的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。
拋光時(shí),試樣磨面與拋光盤應(yīng){jd1}平行并均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí),由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫,潤(rùn)滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會(huì)拋傷表面。
為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,{zh0}不要超過(guò)500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無(wú)光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋消除。
精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。

技術(shù)參數(shù)
1. 拋盤直徑 φ200mm
2.轉(zhuǎn)速:1400r/min或900r/min(定制)
3.電源:380v、50Hz或220v、50Hz (定制)
4.外型尺寸 360X300X320mm
5.凈重 16Kg


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