鍍層厚度的測量部位,原則上應為厚度最小處。但因鍍件形狀使鍍層薄厚不均時,可經當事者間的協(xié)商變更測量部位。除鋅合金及鋁合金基材外,其他基材可以用鍍鎳代替鍍銅。銅厚度應能保證外觀及冷熱循環(huán)性。雖然形狀、大小、成型條件等基材條件不同,至少測定點銅層厚度應為鎳層厚度的1倍以上。鎳鍍層最小厚度和鉻鍍層最小厚度根據使用環(huán)境不同也有著不同的規(guī)定。系統(tǒng)噴鍍，處理后的廢液不含任何有害重金屬，安全無公害，無任何污染。而電鍍含有強烈性的有害重金屬，帶給產業(yè)的環(huán)境污染。

噴鍍系統(tǒng)不再像以往的電鍍方式那樣耗費勞力。而是采用直接噴涂的方式使被涂物表面呈現(xiàn)各種顏色的鏡面效果。投資少，成本低與電鍍相比，使用電鍍除了本體設備價格昂貴以外，其相關的和環(huán)保設備也必須相應配置。比較而言，CTS納米噴鍍系統(tǒng)的投入費用要遠遠低得多，而且無任何環(huán)境問題。

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