等離子刻蝕機美國RIE ICP

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專業(yè)供應(yīng)RIE ICP等離子刻蝕機，反應(yīng)離子刻蝕，感應(yīng)耦合等離子刻蝕--北京特博萬德科技有限公司

適用于Si,SiO2,金屬，III-V,有機物等材料的刻蝕，系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕氮化物、

氧化物以及任何需要氟基化學(xué)刻蝕的薄膜或基片（如碳、環(huán)氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚

酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）

型號有經(jīng)濟(jì)型和高端型，有科研應(yīng)用的型號和小規(guī)模及大規(guī)模生產(chǎn)的型號，產(chǎn)品性價比高。

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